Эффект поля в структуре металл - сегнетоэлектрик - полупроводник с использованием многослойного сегнетоэлектрика. Стрюков, Д. В., Мухортов, В. М., Бирюков, С. В., & Головко, Ю. И. Наука Юга России, 13(1):18–24, 2017.
Эффект поля в структуре металл - сегнетоэлектрик - полупроводник с использованием многослойного сегнетоэлектрика [link]Paper  doi  abstract   bibtex   
Одной из важнейших концепций использования сегнетоэлектрических гетероструктур в микроэлектронике является энергонезависимая память (FeRAM), где в качестве подзатворного диэлектрика в полевом транзисторе используется сегнетоэлектрическая пленка. Вторым важным применением сегнетоэлектрических пленок является их использование при создании принципиально новых микроэлектромеханических устройств (МЕМС). Реализация МЕМС с использованием сегнетоэлектрических наноразмерных пленок в качестве активного элемента по своим параметрам в десятки раз будет превосходить существующие аналоги. В последние годы вопросам стабильности поляризованного состояния и динамики переключения поляризации придается большое значение. В данной работе впервые приведены результаты по исследованию эффекта поля в структуре металл - сегнетоэлектрик - полупроводник, где в качестве сегнетоэлектрика использованы многослойные сегнетоэлектрические слои. Использование многослойных сегнетоэлектрических гетероструктур приводит к самосогласованию поверхностных состояний на границах полупроводник - сегнетоэлектрик и сегнетоэлектрик - сегнетоэлектрик с переключаемой под действием внешнего поля спонтанной поляризацией. Это позволяет создать устойчивое поляризованное состояние с незначительной ее релаксацией.
@article{__2017-5,
	title = {Эффект поля в структуре металл - сегнетоэлектрик - полупроводник с использованием многослойного сегнетоэлектрика},
	volume = {13},
	issn = {2500-0640},
	url = {https://elibrary.ru/item.asp?id=28843943},
	doi = {10.23885/2500-0640-2017-13-1-18-24},
	abstract = {Одной из важнейших концепций использования сегнетоэлектрических гетероструктур в микроэлектронике является энергонезависимая память (FeRAM), где в качестве подзатворного диэлектрика в полевом транзисторе используется сегнетоэлектрическая пленка. Вторым важным применением сегнетоэлектрических пленок является их использование при создании принципиально новых микроэлектромеханических устройств (МЕМС). Реализация МЕМС с использованием сегнетоэлектрических наноразмерных пленок в качестве активного элемента по своим параметрам в десятки раз будет превосходить существующие аналоги. В последние годы вопросам стабильности поляризованного состояния и динамики переключения поляризации придается большое значение. В данной работе впервые приведены результаты по исследованию эффекта поля в структуре металл - сегнетоэлектрик - полупроводник, где в качестве сегнетоэлектрика использованы многослойные сегнетоэлектрические слои. Использование многослойных сегнетоэлектрических гетероструктур приводит к самосогласованию поверхностных состояний на границах полупроводник - сегнетоэлектрик и сегнетоэлектрик - сегнетоэлектрик с переключаемой под действием внешнего поля спонтанной поляризацией. Это позволяет создать устойчивое поляризованное состояние с незначительной ее релаксацией.},
	language = {ru},
	number = {1},
	urldate = {2023-11-11},
	journal = {Наука Юга России},
	author = {Стрюков, Д. В. and Мухортов, В. М. and Бирюков, С. В. and Головко, Ю. И.},
	year = {2017},
	keywords = {Двумерные Напряжения, Двухслойные Сегнетоэлектрики, Сегнетоэлектрическая Пленка, Структура, Эффект Поля},
	pages = {18--24},
	file = {Полный текст:C\:\\Users\\aleks\\Zotero\\storage\\A5UM2STP\\Стрюков и др. - 2017 - Эффект Поля В Структуре Металл - Сегнетоэлектрик -.pdf:application/pdf},
}

Downloads: 0